Apparecchiature metrologiche rigenerate

Entrepix offre apparecchiature metrologiche rigenerate di Rudolph e CDE.

Ellissometro Rudolph AutoEL II, III e IV

Specifiche e capacità:

Conveniente e ad alte prestazioni
Misura con precisione un'ampia varietà di pellicole
Il microprocessore interno automatizza il funzionamento del sistema e riporta i valori delta e psi sul pannello frontale.
Il software interno di riduzione dei dati trasforma automaticamente il delta e il psi in spessore e indice di rifrazione.
Il software opzionale di riduzione dei dati viene eseguito su PC e si interfaccia direttamente tramite un pannello seriale RS232 standard.
Gli utenti possono recuperare i parametri dei campioni precedenti durante le misurazioni future grazie alla memoria non volatile (AutoEL III).
Velocizza le analisi di materiali simili
La stampante termica fornisce una copia cartacea dei risultati (AutoEL III)
Sorgente luminosa a tre lunghezze d'onda per selezionare la lunghezza d'onda ideale per ogni campione (AutoEL IV)
Elimina le ambiguità degli ordini e altri problemi legati alla misurazione dello spessore in prossimità del ciclo completo (AutoEL IV)
Il sistema di sicurezza incorporato commuta automaticamente il sistema ottico sulla lunghezza d'onda selezionata e apporta le modifiche necessarie al software di riduzione dei dati (AutoEL IV).
Microprocessore master/slave con software di riduzione dati ampliato (AutoEL IV)

Specifiche e capacità:

Risultati accurati e ripetibili e misure di precisione dello spessore del film
Il laser HeNe a lunga durata fornisce un elevato rapporto segnale/rumore per la ripetibilità e la precisione della lunghezza d'onda della transizione atomica.
La tecnologia utilizza la tecnica di misurazione del primo principio del NIST per calibrare gli standard di riferimento dello spessore
Il sistema Advanced Focused Beam™ utilizza una tecnologia a doppia lunghezza d'onda che misura con un piccolo spot a più angoli di incidenza e lunghezze d'onda.
Produce risultati di elevata certezza su film multistrato complessi
Dati affidabili e veloci per gate inferiori a 30 Angstrom, poliimmide spessa, ILD su ARC o processi multiparametrici a piccoli punti.
Seconda sorgente luminosa opzionale (FE III)
Calcolo di un massimo di sei incognite su stack di film multistrato complessi, come OPO e ONO, per lo spessore e la composizione del film (FE VII)

Caratteristiche:

Sistema metrologico a tecnologia avanzata
Precisione intrinseca per una facile corrispondenza del sistema
Doppia lunghezza d'onda per una risoluzione assoluta dell'ordine
Trasporto ad acqua ad alta produttività fino a 29 wafer all'ora
Riconoscimento robusto dei modelli
Caricamento in coda per la misurazione, l'impostazione e la revisione simultanea dei dati
Allineatore di wafer piatti e dentellati rapido e preciso
Un software potente e facile da usare
Software conforme a GEM/SECS II

Specifiche e capacità:

Per esigenze di produzione inferiori a 300 mm
Affidabilità, precisione e ripetibilità per gli ingegneri dei film sottili
Caricamento automatico della cassetta
Riduce i costi di gestione della metrologia dei film sottili per CMP, impianto ionico, sviluppo e monitoraggio dei processi di diffusione.