Lucidatrici per wafer CMP Strasbaugh
Entrepix lavora con tre diversi modelli di apparecchiature CMP Strasbaugh.
Strasbaugh 6DS-SP nTegrità
Specifiche e capacità:
Lucidatura di precisione completamente automatizzata
Ideale per le applicazioni che richiedono ripetibilità e flessibilità operativa e di processo
Gestione automatica dei wafer
Può lucidare due wafer su un'unica piastra per massimizzare la capacità di lavorazione e la quantità
Rimuove i materiali per lucidare i wafer e ottenere planarità, uniformità e planarizzazione su wafer di dispositivi a foglio o a schema.
Flessibilità di elaborazione
Risultati ripetibili
Dimensioni dei wafer da 100 mm a 200 mm
Strasbaugh 6EC nSpire
Specifiche e capacità:
Strumento CMP economico per la ricerca, l'analisi dei guasti e la produzione in basso volume
Operazioni semiautomatiche programmabili tramite touchscreen a colori
Controllo di processo ripetibile e accurato
Una pompa per liquami standard, opzione per una seconda pompa
Dimensioni ridotte: 48" x 37" x 72"
Condizionamento del pad
Dimensioni dei wafer di 4 pollici, 6 pollici o 8 pollici
Strasbaugh 6EG nHance
Specifiche e capacità:
Strumento CMP economico per la ricerca, l'analisi dei guasti e la produzione in basso volume
Operazioni semiautomatiche programmabili tramite touchscreen a colori
Controllo di processo ripetibile e accurato
Può lucidare due wafer su un'unica piastra per massimizzare la capacità di produzione e la quantità di materiale
Rimuove i materiali per lucidare i wafer e ottenere planarità, uniformità e planarizzazione su wafer di dispositivi a foglio o a schema.
Flessibilità di elaborazione
Risultati ripetibili
Dimensione del wafer di 300 mm
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